长江商报讯(记者 陈妮希)12月27日,国家存储器项目周边重要配套市政道路——科技五路(未来二路-未来三路)段通车,为国家存储器项目顺利投产奠定坚实基础。
科技五路道排工程位于东湖高新区,西起高新二路东至左岭柘树湾路,全长6.2公里,路面红线宽30—40米,此次通车的为未来二路—未来三路段,全长1.54公里。项目建设单位为武汉光谷建设投资有限公司,施工单位为湖北宏缘市政工程建设有限公司。
科技五路是湖北省、武汉市重点项目——国家存储器项目的重要配套市政道路。武汉市、东湖高新区高度重视国家存储器基地项目,全力做好项目实施过程中的各项配套服务工作。为满足国家存储器项目投产需要,武汉光谷建设投资有限公司按照2017年12月31日前实现科技五路(未来二路——未来三路)完工通车的要求,在高新区相关单位的支持下,克服“插花地带”阻工问题,提前实现了项目通车目标。
科技五路(未来二路——未来三路)通车后,将为国家存储器项目投产前大型设备的进出扫除了最大障碍,为其顺利投产奠定坚实基础。
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